Zarate Corona, OscarHerrera Pérez, José LuisLópez Gayou, Valentín2026-06-232026-06-231998-05https://hdl.handle.net/20.500.12371/33215Los detectores IR en el régimen de 8-14 μm basados en superredes de GaAlSb/AlSb, InAs/InGaSb e InAsSb se creen de una gran competición para los detectores de hoy en día de HgCdTe. Comparado con otros compuestos III-V, tales como GaAs, InSb, InP y GaP, los aspectos tecnológicos del GaSb han sido poco estudiados actualmente. En este trabajo nos enfocamos a una parte importante del proceso de fabricación de dispositivos optoelectrónicos: la formación de contactos óhmicos de baja resistividad en GaSb. Enfocamos nuestro estudio en la fabricación de interfaces metal-semiconductor y desarrollamos un proceso que disminuye la resistencia eléctrica entre ellos. El trabajo se desarrollará bajo la siguiente temática: en el capítulo 1 describimos teóricamente los contactos metal-semiconductor, iniciamos con una breve reseña histórica y resumimos los principales mecanismos de transporte eléctrico en esta interfaz. En el capítulo 2 mostramos los diferentes métodos de medición de la resistencia de contacto, enfocándonos en semiconductores binarios y en el método de Kuphal. En el capítulo 3 describimos la forma experimental que usamos para obtener nuestros contactos eléctricos. Finalmente, en el capítulo 4 analizamos los resultados obtenidos y hacemos una discusión de ellos.spaIngeniería eléctrica —Conductividad eléctrica—Semiconductores—Ingeniería nuclear—Normas y mediciones eléctricas—Ohm—Electroóptica aplicadaOptoelectrónica —Películas delgadas—Dopaje—Electricidad y magnetismo—Amplificadores—Teoría electromagnética–Circuitos especialesFísica de semiconductores—Corriente eléctricaContactos óhmicos de baja resistividad para dispositivos de GaSbTesis de licenciaturarestrictedAccessLELE1998 L6 C6