Simulación de un sistema típico de almacenamiento de cl2 gas como precursor químico y productos en la sección de proceso en aspen HYSYS V.8.8.

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dc.audiencegeneralPublices_MX
dc.contributorPacheco Aguirre, Francisco Manuel
dc.contributor.advisorPACHECO AGUIRRE, FRANCISCO MANUEL; 363598
dc.contributor.authorCastillo Romero, Andrea
dc.date.accessioned2023-04-21T22:16:35Z
dc.date.available2023-04-21T22:16:35Z
dc.date.issued2022-10-13
dc.description.abstract"El presente trabajo aborda el desarrollo de un sistema típico de almacenamiento para cloro gas (𝐶�����𝑙�����2) uno de los compuestos químicos más utilizados a nivel industrial como precursor químico, basado en simulación de procesos en estado dinámico en Aspen Hysys V.8.8., el enfoque parte de los parámetros básicos de diseño de los tanques de almacenamiento tales como: capacidad, espesor, material, disposición, corrosión permisible, entre otros, asociados a las principales propiedades fisicoquímicas del cloro como los son: temperatura y presión de almacenamiento, datos de equilibrio líquidovapor, densidad relativa, entre otros. El diseño propone el diagrama de flujo de proceso (DFP) para un recipiente y la instalación en batería serie y paralelo propuestos a través de reglas heurísticas, así como también la propuesta y diseño para los sistemas de instrumentación y control basado en los típicos del sistema. Cuyo resultado permite considerar a la simulación obtenida como una herramienta para conocer y valorar el comportamiento de estos sistemas de almacenamiento".es_MX
dc.folio20221129163235-9102-TLes_MX
dc.formatpdfes_MX
dc.identificator7es_MX
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12371/18270
dc.language.isospaes_MX
dc.matricula.creator201661167es_MX
dc.publisherBenemérita Universidad Autónoma de Pueblaes_MX
dc.rights.accesopenAccesses_MX
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0es_MX
dc.subject.classificationINGENIERÍA Y TECNOLOGÍAes_MX
dc.subject.lccProductos químicos--Almacenamientoes_MX
dc.subject.lccTanques de almacenamiento--Diseño y construcciónes_MX
dc.subject.lccProcesos químicos--Simulación por computadorases_MX
dc.thesis.careerLicenciatura en Ingeniería Químicaes_MX
dc.thesis.degreedisciplineÁrea de Ingeniería y Ciencias Exactases_MX
dc.thesis.degreegrantorFacultad de Ingeniería Químicaes_MX
dc.thesis.degreetoobtainIngeniero (a) Químico (a)es_MX
dc.titleSimulación de un sistema típico de almacenamiento de cl2 gas como precursor químico y productos en la sección de proceso en aspen HYSYS V.8.8.es_MX
dc.typeTesis de licenciaturaes_MX
dc.type.conacytbachelorThesises_MX
dc.type.degreeLicenciaturaes_MX
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