Caracterización de películas de SRO depositadas lor LPCVDen horno de 4 pulgadas cuando existen pequeñas variaciones de los gases reactivos
| dc.audience | generalPublic | |
| dc.contributor.advisor | Juárez Ruiz, Estela de L. | |
| dc.contributor.advisor | Aceves Mijares, Mariano | |
| dc.contributor.advisor | Monfil Leyva, Karim | |
| dc.contributor.author | Cabrera López, Abraham | |
| dc.coverage.place | Tesiteca, Biblioteca Central 3er. piso | |
| dc.date.accessioned | 2026-10-19T15:41:24Z | |
| dc.date.available | 2026-10-19T15:41:24Z | |
| dc.date.issued | 2011 | |
| dc.description.abstract | En este trabajo se presenta un estudio de las peliculas de SRO obtenidas con pequeñas variaciones en las presiones de los gases reactivos usando un sistema de LPCVD para cuatro pulgadas. El índice de refracción y el grosor de cada película de SRO fueron obtenidos usando elipsometría nula para determinar las constantes ópticas. El espectro de transmisión y absorbancia en el infrarrojo de las películas de SRO fueron obtenidos durante la caracterización de las películas ya que proporciona un interferograma que contiene la información espectral de la fuente. Además, los espectros de absorción y de emisión de fotoluminiscencia de cada una de las muestras de SRO fueron obtenidos usando un espectrofluorómetro. Los valores y espectros obtenidos para los depósitos de SRO con el sistema LPCVD de 4 pulgadas fueron analizados y comparados con aquellos depósitos reportados usando el sistema de 2 pulgadas. Los parámetros y condiciones de depósito óptimo de las películas de SRO por LPCVD en el horno de cuatro pulgadas fueron registradas para obtener un proceso eficiente y repetible. | |
| dc.format | unknown | |
| dc.identifier.bibrecord | LELE2011C3C3 | |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/20.500.12371/34255 | |
| dc.language.iso | spa | |
| dc.publisher | Benemérita Universidad Autónoma de Puebla | |
| dc.rights.acces | restrictedAccess | |
| dc.subject.lcc | Constantes ópticas--Principios variacionales--Espectroscopia de transformada de Fourier | |
| dc.thesis.career | Licenciatura en Ciencias de la Electrónica (aparece lic. en electrónica) | |
| dc.thesis.degreediscipline | Área de Ingeniería y Ciencias Exactas | |
| dc.thesis.degreegrantor | Facultad de Ciencias de la Electrónica | |
| dc.title | Caracterización de películas de SRO depositadas lor LPCVDen horno de 4 pulgadas cuando existen pequeñas variaciones de los gases reactivos | |
| dc.type | Tesis de licenciatura | |
| dc.type.degree | Licenciatura |