Caracterización del crecimiento de películas delgadas de SiO2 dopadas con cobalto, empleando el método SOL-GEL

dc.audiencegeneralPublic
dc.contributor.advisorDe León Paredes, Victor
dc.contributor.advisorVázquez Luna, José G.
dc.contributor.authorRamos Mendoza, Alicia
dc.contributor.committeeLópez Flores, Rey Baltazar
dc.contributor.committeeRamírez Perucho, Adolfo
dc.contributor.committeeJuárez Santiesteban, Héctor
dc.coverage.placeTesiteca, Biblioteca Central 3er. piso
dc.date.accessioned2026-09-28T15:09:44Z
dc.date.available2026-09-28T15:09:44Z
dc.date.issued2001
dc.description.abstract"En este trabajo se ha analizado recubrimientos de SiO2 preparados por sol-gel conteniendo Co. Las propiedades de los recubrimientos tratados térmicamente en aire a 300°C y 500°C fueron caracterizadas usando técnicas de microscopia de fuerza atómica (MFA), de rayos x, mediciones ópticas y de perfil de profundidad. De las imágenes obtenidas por MFA se determinó la morfología superficial de los recubrimientos, con los difractogramas obtenidos del análisis de rayos-x se determina la presencia de Co3O4 con estructura cúbica spinel y se determinan los parámetros de red. De a cuerdo con las mediciones ópticas se ha determinado que el espectro de absorción de muestras con baja concentración de Co muestra solamente bandas asociadas con el Co²+ tetragonal, independientemente de la temperatura de tratamiento. Las muestras con alta concentración de cobalto, y tratadas a 300°C, muestran evidencia de Co² con ambas coordinaciones la cuádruple y sextuple. Cuando estos recubrimientos son tratados a 500°C, gran parte del cobalto migra a la superficie libre del recubrimiento, donde es oxidado por el oxígeno atmosférico para formar una capa superior de Co3O4. Las constantes ópticas de los recubrimientos tratados térmicamente se obtienen de las mediciones ópticas de reflexión y transmisión, usando modelos ópticos apropiados. Con los perfiles Auger de profundidad obtenidos, se corroboran los modelos empleados en las mediciones ópticas."
dc.formatunknown
dc.identifier.bibrecordLELE2001R3C3
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12371/33833
dc.language.isospa
dc.publisherBenemérita Universidad Autónoma de Puebla
dc.rights.accesrestrictedAccess
dc.subject.lccNanotecnología--Películas delgadas--Dióxido de silicio--Método Sol-Gel--Nanocompositos de cobalto--Caracterización de materiales--Espectroscopia óptica
dc.thesis.careerLicenciatura en Ciencias de la Electrónica (aparece lic. en electrónica)
dc.thesis.degreedisciplineÁrea de Ingeniería y Ciencias Exactas
dc.thesis.degreegrantorFacultad de Ciencias de la Electrónica
dc.thesis.degreetoobtainLicenciado (a) en Electrónica
dc.titleCaracterización del crecimiento de películas delgadas de SiO2 dopadas con cobalto, empleando el método SOL-GEL
dc.typeTesis de licenciatura
dc.type.degreeLicenciatura
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