Estudio de las propiedades ópticas de películas de SiOx/a-SiC:H para su posible aplicación en dispositivos semiconductores
Date
2024-02
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Publisher
Benemérita Universidad Autónoma de Puebla
Abstract
"El número de materiales semiconductores actualmente empleado en dispositivos electrónicos ha crecido en magnitud y diversidad debido a que cada uno tiene propiedades físicas, químicas, ópticas y/o eléctricas únicas para distintas aplicaciones y aunque algunos de ellos han sido ampliamente investigados y estudiados, siempre suelen surgir nuevas ideas con el fin de mejorar la calidad de vida de las personas o mejorar las propiedades intrínsecas, como por ejemplo la investigación sobre silicio. A la fecha existen múltiples estudios e información para potencializar las propiedades del silicio o sobrepasar sus desventajas, por lo cual aún sigue vigente y no sólo por ser el material más abundante y usado en la electrónica, sino por la innovación que se crea día con día, es probable que en cierto punto se llegue a obtener el máximo de este material, pero todo eso sólo será posible si la imaginación humana lo permite. Uno de los materiales basados en Silicio estudiados en este trabajo, es el óxido de silicio no estequiométrico o también conocido como óxido rico en silicio (SRO), este material ha presentado favorables características para ser llevado a un dispositivo electroluminiscente, ya que presenta una intensa emisión de fotoluminiscencia en el espectro electromagnético visible".
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