Formación de nanoestructuras de Al sobre la superficie (111) del GaN
dc.audience | generalPublic | es_MX |
dc.contributor | Camacho García, José Humberto | |
dc.contributor | Hernández Cocoletzi, Gregorio | |
dc.contributor.advisor | CAMACHO GARCIA, JOSE HUMBERTO; 226426 | |
dc.contributor.advisor | HERNANDEZ COCOLETZI, GREGORIO; 5338 | |
dc.contributor.author | Moreno Hernández, Juan Carlos | |
dc.date.accessioned | 2020-09-30T19:05:47Z | |
dc.date.available | 2020-09-30T19:05:47Z | |
dc.date.issued | 2018-07 | |
dc.description.abstract | “En este trabajo se presentó un estudio de la formación de nanoestructuras de Al sobre la superficie (111) del GaN. Para desarrollar dicho estudio se empleó la teoría funcional de la densidad (DFT, por sus siglas en inglés) utilizando la aproximación del gradiente generalizado y ocupando el código PW-scf de la paquetería Quantum Expresso. Se consideró la adsorción e incorporación de los átomos de Al sobre una superficie de GaN con periodicidad (2 x 2) para la formación de las nanoestructuras. Los átomos de Al fueron depositados en los 4 sitios de alta simetría: H3, T4, Top y Bridge. El número de átomos depositados fueron ¼ y una monocapa completa de Al para determinar las configuraciones de las nanoestructuras mas estables. Para conocer la estabilidad de dichas configuraciones se calcularon las energías de formación de superficie de cada estructura. Los resultados mostraron que el sitio T4 es el más estable cuando ¼ de monocapa de Al es adsorbido con un valor de -0.23 eV, mientras que cuando una monocapa completa de Al es adsorbida el sitio Top es el más estable con una energía de -0.32 eV”. | es_MX |
dc.folio | 447918TL | es_MX |
dc.format | es_MX | |
dc.identificator | 7 | es_MX |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/20.500.12371/8064 | |
dc.language.iso | spa | es_MX |
dc.matricula.creator | 201220816 | es_MX |
dc.publisher | Benemérita Universidad Autónoma de Puebla | es_MX |
dc.rights.acces | openAccess | es_MX |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0 | es_MX |
dc.subject.classification | INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA | es_MX |
dc.subject.lcc | Semiconductores--Investigación | es_MX |
dc.subject.lcc | Semiconductores--Materiales | es_MX |
dc.subject.lcc | Materiales nanoestructurados | es_MX |
dc.subject.lcc | Nanoestructuras--Propiedades eléctricas--Investigación | es_MX |
dc.subject.lcc | Aluminio | es_MX |
dc.subject.lcc | Nitruro de galio | es_MX |
dc.thesis.career | Licenciatura en Ingeniería en Materiales | es_MX |
dc.thesis.degreediscipline | Área de Ingeniería y Ciencias Exactas | es_MX |
dc.thesis.degreegrantor | Facultad de Ingeniería Química | es_MX |
dc.thesis.degreetoobtain | Ingeniero (a) en Materiales | es_MX |
dc.title | Formación de nanoestructuras de Al sobre la superficie (111) del GaN | es_MX |
dc.type | Tesis de licenciatura | es_MX |
dc.type.conacyt | bachelorThesis | es_MX |
dc.type.degree | Licenciatura | es_MX |