Producciones de resinas fotosensibles
Date
1989
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Universidad Autónoma de Puebla
Abstract
Este trabajo aborda el uso de resinas fotosensibles en aplicaciones microelectrónicas, enfocándose especialmente en las de tipo negativo. El objetivo principal es sintetizar dos resinas fotosensibles negativas, junto con un compuesto fotoiniciador necesario para su entrecruzamiento.
Se eligieron como materiales base el cis-1,4-poliisopreno sintético, por su fácil adquisición, y el cinamato de polivinilo, uno de los componentes más comunes en fotosíntesis negativos. También se exploran métodos para obtener sensibilizadores adecuados.
En la parte teórica, se revisan aspectos relacionados con la evolución, propiedades, comportamiento fotoquímico, aplicación y manejo de estos materiales. La sección experimental se centra en los procedimientos de laboratorio realizados.
El propósito final del estudio es apoyar al departamento de semiconductores de la universidad en el desarrollo de la industria microelectrónica nacional, reduciendo la dependencia de materiales importados de alto costo.