Optimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solares

Date
2018-01
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Benemérita Universidad Autónoma de Puebla
Abstract
"El objetivo planteado en este trabajo fue el depósito, caracterización y estudio de películas delgadas de μc-Si:H, pm-Si:H y a-Si:H (tipo p y n) utilizando la técnica PECVD a bajas temperaturas (200 °C). La caracterización estructural, eléctrica y óptica fue determinante para seleccionar la mejor película intrínseca y dopada para la fabricación de celdas solares tipo PIN cuya estructura es la siguiente: sustrato de vidrio / ITO / película de a-Si:H tipo p / película intrínseca (pm-Si:H ó 𝜇c-Si:H) /película a-Si:H tipo n / contacto de Ag. Los resultados preliminares muestran que la mejor película intrínseca fue la de 𝜇c-Si:H depositada a 10 W con una fotorespuesta (σph/σD) de 2.79 E5, mientras que las películas de a-Si:H tipo p y n depositadas con un flujo de 15 sccm de B2H6 y 10 sccm de PH3, respectivamente, muestran una buena conductividad a temperatura ambiente (𝜎𝐷) y baja energía de activación (Ea). Estas películas nos permitieron obtener una celda PIN con una eficiencia cercana al 2%."
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