Obtención de películas de nitruro de silicio enriquecido por la técnica LPCVD para su posible aplicación como películas antirreflejantes
Date
2025-04-08
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Benemérita Universidad Autónoma de Puebla
Abstract
"El nitruro de silicio es un material comúnmente utilizado para aplicaciones cerámicas y en los procesos de fabricación de circuitos integrados (CIs), también ha aumentado el interés de la comunidad científica para ser utilizado como recubrimiento funcional debido a sus propiedades físicas, mecánicas, eléctricas y optoelectrónicas. En particular, el nitruro de silicio rico en silicio (SRSN) ha sido considerado en la industria fotovoltaica, como una película de conversión descendente para células solares. En este trabajo, las películas de SRSN se han obtenido mediante la técnica de deposición química en fase de vapor a baja presión (LPCVD) a temperaturas de deposición bajas a moderadas con una variación en la relación de presión de los gases precursores. Las películas de SRSN mostraron una amplia fotoluminiscencia (PL) en la región visible y propiedades ópticas adecuadas para ser utilizadas como recubrimiento fotoluminiscente en celdas solares de silicio. La ausencia de altas temperaturas de deposición podría preservar la estructura original de las celdas solares de silicio, una vez que se aplique la capa de SRSN. Además, el control de la relación de presión de los gases reactivos y la temperatura de deposición muestra una influencia en el índice de refracción, la rugosidad de la superficie y la emisión de fotoluminiscencia".
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