Estudio de las características eléctricas de estructuras tipo MOS con SiOX para su posible aplicación a fotodetectores

Date
2016-05
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Abstract
"La presente tesis está enfocada en la caracterización óptica y eléctrica de estructuras tipo MOS con SiOx para su posible aplicación en fotodetectores. Se realizaron películas de SiOx con diversos parámetros de fabricación, y se emplearon dos tipos de compuertas, una estructura con compuerta de Aluminio y la otra con FTO (oxido de estaño dopado con flúor). Las películas de SiOx de película delgada tienen propiedades ópticas y estructurales muy interesantes, las cuales pueden ser usadas como capas absorbentes de radiación UV-Visible que pueden ser aplicadas en la fotodetección, esto debido al efecto combinado de los nanocristales de silicio y defectos presentes en la película SiOx".
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