Optimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solares
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2018-01
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Benemérita Universidad Autónoma de Puebla
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“La electricidad generada por medio de la conversión de la energía solar, es considerada como una de las fuentes alternas más prometedoras y limpias que puede sustituir el uso de combustibles fósiles, por lo que su estudio y desarrollo se ha vuelto un tema de gran interés en años recientes. Las celdas solares de película delgada presentan bajos costos de producción debido a que éstas pueden ser depositadas sobre vidrios, láminas metálicas o plásticos flexibles utilizando una cantidad mínima de material para la formación de la película. En este contexto tenemos al silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H), silicio microcristalino (µc-Si:H) y silicio polimorfo (pm-Si:H), los cuales son semiconductores de gran interés en la industria fotovoltaica, porque pueden depositarse en forma de película delgada de bajo costo y producción masiva. El objetivo planteado en este trabajo fue el depósito, caracterización y estudio de películas delgadas de µc-Si:H, pm-Si:H y a-Si:H (tipo p y n) utilizando la técnica PECVD a bajas temperaturas (200 °C). La caracterización estructural, eléctrica y óptica fue determinante para seleccionar la mejor película intrínseca y dopada para la fabricación de celdas solares tipo PIN”.
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