Optimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solares

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dc.audiencegeneralPublices_MX
dc.contributorMoreno Moreno, Mario
dc.contributorMeza Espinoza, Luis Octavio
dc.contributor.advisorMORENO MORENO, MARIO; 102203
dc.contributor.authorLuna Zempoalteca, Xochilt
dc.creatorLUNA ZEMPOALTECA, XOCHILT; 709945
dc.date.accessioned2020-09-23T15:48:42Z
dc.date.available2020-09-23T15:48:42Z
dc.date.issued2018-01
dc.description.abstract“La electricidad generada por medio de la conversión de la energía solar, es considerada como una de las fuentes alternas más prometedoras y limpias que puede sustituir el uso de combustibles fósiles, por lo que su estudio y desarrollo se ha vuelto un tema de gran interés en años recientes. Las celdas solares de película delgada presentan bajos costos de producción debido a que éstas pueden ser depositadas sobre vidrios, láminas metálicas o plásticos flexibles utilizando una cantidad mínima de material para la formación de la película. En este contexto tenemos al silicio amorfo hidrogenado (a-Si:H), silicio microcristalino (µc-Si:H) y silicio polimorfo (pm-Si:H), los cuales son semiconductores de gran interés en la industria fotovoltaica, porque pueden depositarse en forma de película delgada de bajo costo y producción masiva. El objetivo planteado en este trabajo fue el depósito, caracterización y estudio de películas delgadas de µc-Si:H, pm-Si:H y a-Si:H (tipo p y n) utilizando la técnica PECVD a bajas temperaturas (200 °C). La caracterización estructural, eléctrica y óptica fue determinante para seleccionar la mejor película intrínseca y dopada para la fabricación de celdas solares tipo PIN”.es_MX
dc.folio69118Tes_MX
dc.identificator1es_MX
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12371/7946
dc.language.isospaes_MX
dc.matricula.creator215471122es_MX
dc.publisherBenemérita Universidad Autónoma de Pueblaes_MX
dc.rights.accesopenAccesses_MX
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0es_MX
dc.subject.classificationCIENCIAS FÍSICO MATEMÁTICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRAes_MX
dc.subject.lccSistemas de energía eléctrica--Investigaciónes_MX
dc.subject.lccRecursos energéticos renovableses_MX
dc.subject.lccSistemas de energía fotovoltaica--Diseño y construcciónes_MX
dc.subject.lccPelículas delgadas--Investigaciónes_MX
dc.subject.lccCélulas solares de silicioes_MX
dc.subject.lccSilicio--Propiedades eléctricases_MX
dc.subject.lccDeposición química de vapor asistida por plasmaes_MX
dc.thesis.careerMaestría en Ciencias (en la Especialidad de Ciencias de Materiales)es_MX
dc.thesis.degreedisciplineÁrea de Ingeniería y Ciencias Exactases_MX
dc.thesis.degreegrantorInstituto de Física "Ing. Luis Rivera Terrazas"es_MX
dc.thesis.degreetoobtainMaestro (a) en Ciencias (Ciencias de Materiales)es_MX
dc.titleOptimización de películas delgadas de silicio microcristalino y polimorfo, depositadas por la técnica PECVD, para aplicaciones en celdas solareses_MX
dc.typeTesis de maestríaes_MX
dc.type.conacytmasterThesises_MX
dc.type.degreeMaestríaes_MX
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Tesis de Maestría